PLASMA 2012-10-23 - Pozytywna ocena wniosku Emitenta o dofinansowanie projektu - działanie 1.4 POIG
- Utworzono: wtorek, 23, październik 2012 15:29
typ raportu | Bieżący |
numer | 18/2012 |
data dodania | 2012-10-23T15:29:40 |
spółka | PLASMA |
Zarząd Spółki Plasma SYSTEM S.A. z siedzibą w Siemianowicach Śląskich informuje, że w dniu w dniu 22.10.2012r. pozyskał informację o pozytywnej ocenie projektu zgłoszonego przez Spółkę do dofinansowania w konkursie w ramach Działania 1.4 POIG "Wsparcie projektów celowych". Projekt "Opracowanie technologii laserowego wytwarzania warstw wierzchnich na elementach hydrauliki siłowej" w wyniku pozytywnej oceny merytorycznej Narodowego Centrum Badań i Rozwoju został rekomendowany do dofinansowania.
Całkowita wartość projektu wynosi 4,46 mln PLN, w tym wnioskowana, a zarazem rekomendowana kwota dofinansowania wynosi 2,49 mln PLN.
Celem projektu jest poszerzenie i wzrost innowacyjności oferty produktowej i usługowej Spółki poprzez opracowanie i wdrożenie innowacyjnej technologii laserowego wytwarzania warstw wierzchnich w produkcji i regeneracji elementów hydrauliki siłowej.
Podstawa prawna:
§ 3 ust. 1 Załącznika Nr 3 do Regulaminu Alternatywnego Systemu Obrotu "Informacje Bieżące i Okresowe przekazywane w alternatywnym systemie obrotu na rynku NewConnect".
Osoby reprezentujące spółkę:
- Sławomir Wawrzyniak - Prezes Zarządu
- Andrzej Gruszka - Wiceprezes Zarządu
Załączniki:
Reklama AEC
Reklama NEWWEB
- Obroty
- *
- Wzrosty
- Spadki